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    中国国家知的財産権局と米国特許商標局が二国間会談を行い、新たな協力了解覚書に調印



     4月15日、中国国家知的財産権局の申長雨局長は北京で米国特許商標局のケイティビダル局長一行と会見した。会議では、双方はそれぞれの国の知的財産活動の最新の進展を紹介し、互いの懸念事項をめぐって踏み込んだ意見交換を行い、両局の新版協力了解覚書に共同で調印した。

     申長雨氏は、知的財産権協力は中米両国の協力の重要な分野だと述べた。近年、中米両局は開放的、実務的、互恵的な態度を堅持し、中米知的財産権交流・協力の発展を積極的に推進し、多くの分野で実り多い成果を上げている。

     ケイティヴィダル氏は、「米国側は対中知的財産権協力を非常に重視している。今回の協力了解覚書の調印は双方の協力がさらに拡大したことを示しており、今後多国間・二国間ルートを通じて対話・交流を引き続き強化し、互恵関係を促進し、両国のイノベーション主体によ良いサービスを提供することを期待している」と述べた。

     新版協力了解覚書の枠組みの下で、中米両局は協力関係をさらに発展し、情報交流、特許・商標審査、自動化、産業アウトリーチなどの分野での実務協力を深化させる。

     

     出典:国家知識産権局政務WeChat