このほど、中国国家知識産権局が発表したデータによると、2021年、外国出願人の中国における発明の権利付与が23%、商標登録の取得が5%、前年同期比でそれぞれ増加しており、合弁企業及び外資企業による中国の知的財産権保護環境に対する認可が十分に示された。2021年、合弁企業と外資企業の知的財産権保護に対する満足度は、第13次五カ年計画初期と比べてそれぞれ4.52点と2.36点上昇した。
2021年の中国知的財産権保護の社会満足度は過去最高の80.61点に達し、調査開始当初の2012年に比べて16.92点上昇し、2年連続で80点のハードルを超え、全体として良好な段階に入った。
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