来源：国知局
近日，国家知识产权局公布2021年2月份知识产权主要统计数据；与2020年2月数据对比，发明专利授权量增加39238件（同比增长71.62%）；实用新型专利授权量增加131127件（同比增长55.03%）；外观设计专利授权量减少8871件（同比减少8.39%）。
商标注册量1358311件，增加510824件（同比增长60.27%）。
国知局近日印发《推动知识产权高质量发展年度工作指引（2021）》，22条任务清单之一提到：知识产权审查质量和审查效率持续提升，发明专利审查周期压减至18.5个月，高价值发明专利审查周期压减至14个月，商标注册平均审查周期稳定在4个月。
从2021年1月开始，国知局的统计月报不再公布三类专利及商标的申请量了。
专 利
2021年1-2月，发明专利授权9.4028万件。截至20201年2月底，我国发明专利有效量为313.1033万件。
2021年1-2月，实用新型专利授权36.9403万件。截至2021年2月底，实用新型专利有效量为722.9444万件。
2021年1-2月，外观设计专利授权9.6815万件。截至2021年2月底，外观设计专利有效量为224.0826万件。
商 标
2021年1-2月，商标注册量为135.8311万件。截至2021年2月底，有效注册商标量3139.4824万件。
2021年1-2月，商标异议申请2.8764万件，完成异议案件审查2.5178万件。
地理标志、集成电路布图设计
2021年1-2月，受理地理标志产品申请4件，批准地理标志产品3件，核准使用地理标志专用标志市场主体869家，核准注册地理标志商标42件。
2021年1-2月，集成电路布图设计登记申请2005件, 发证3077件。
